Для цитирования:

Шемардов С.Г., Беклемишева А.В., Александров П.А., Васильев А.Л., Беклемишев В.Н. Высокодозная имплантация ионов гелия малой энергией. Вестник НИЯУ МИФИ. 2025;14(6):553-557. https://doi.org/10.26583/vestnik.2025.6.10. EDN: RXPWRH

For citation:

Shemardov S.G., Beklemisheva A.V., Alexandrov P.A., Vasiliev A.L., Beklemishev V.N. High-dose implantation of low-energy helium ions. Vestnik natsional'nogo issledovatel'skogo yadernogo universiteta "MIFI". 2025;14(6):553-557. (In Russ.) https://doi.org/10.26583/vestnik.2025.6.10. EDN: RXPWRH